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簡(jiǎn)要描述：Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to create desired amounts of defects by alpha particle irradiation process at select amount of doses.
更新時(shí)間：2024-06-03產(chǎn)品型號(hào)： 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家訪 問 量：1403相關(guān)文章
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